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    • JS-600M小型磁控濺射儀
      JS-600M小型磁控濺射儀

      JS-600M小型磁控濺射儀采用二極(DC)直流濺射原理設計,帶磁控靶頭,有水冷功能。設備操作簡單方便,適用于掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極的制作。磁控濺射為冷濺射,對樣品表面的升溫較低,適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件,濺射電流。大尺寸的真空腔體設計,滿足大樣品的濺射需求。

      更新時間:2023-02-20型號:JS-600M瀏覽量:752
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      JS-600M薄膜制備小型磁控濺射儀

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      更新時間:2023-02-20型號:JS-600M瀏覽量:261
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      JS-600M低溫濺射小型磁控濺射儀

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      更新時間:2023-02-20型號:JS-600M瀏覽量:257
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      JS-600M1600V二極磁控濺射儀

      1600V二極磁控濺射儀采用二極(DC)直流濺射原理設計,帶磁控靶頭,有水冷功能。設備操作簡單方便,適用于掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極的制作。磁控濺射為冷濺射,對樣品表面的升溫較低,適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件,濺射電流。大尺寸的真空腔體設計,滿足大樣品的濺射需求。最高電壓1600V,保證在較高的真空環境下,維持自持放電。

      更新時間:2023-02-20型號:JS-600M瀏覽量:171
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